Sale di solfonio, trifenil-, con 2,2,2-trifluoro-1-(solfometil)etil triciclo[3.3.1.13,7]decano-1-carbossilato (1:1) CAS#: 1638216-03-1; ChemWhat Codice: 1499492

IdentificazioneDati fisiciSpectra
Route of Synthesis (ROS)Sicurezza e rischialtri dati

Identificazione

Ürün Adı Sale di solfonio, trifenil-, con 2,2,2-trifluoro-1-(solfometil)etil triciclo[3.3.1.13,7]decano-1-carbossilato (1:1)
Nome IUPAC2-(adamantano-1-carbonilossi)-3,3,3-trifluoropropano-1-solfonato;trifenilsolfanio
Struttura molecolareStruttura Solfonio, trifenil-, sale con 2,2,2-trifluoro-1-(solfometil)etil triciclo[3.3.1.13,7]decano-1-carbossilato CAS 1638216-03-1
Numero del Registro CAS 1638216-03-1
Numero EINECSDati non disponibili
Numero MDLDati non disponibili
Numero di registro di BeilsteinDati non disponibili
Sinonimi2-(adamantano-1-carbonilossi)-3,3,3-trifluoropropano-1-solfonato;trifenilsolfonio
Trifenilsolfonio 2-((adamantano-1-carbonil)ossi)-3,3,3-trifluoropropano-1-solfonato
Formula molecolareC32H33F3O5S2
Peso molecolare618.725
InChIInChI=1S/C18H15S.C14H19F3O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;15-14(16,17)11(7-23(19,20)21)22-12(18)13-4-8-1-9(5-13)3-10(2-8)6-13/h1-15H;8-11H,1-7H2,(H,19,20,21)/q+1;/p-1
Chiave InChILWCJGPXPEOMYDB-UHFFFAOYSA-M
Canonical SMILESO=C(OC(CS(=O)(=O)[O-])C(F)(F)F)C12CC3CC(CC(C3)C1)C2.c1ccc(S+c2ccccc2)cc1
Informazioni sui brevetti
ID brevettoTitoloData di pubblicazione
EP3498694NUOVI DERIVATI BENZAMIDE COME MODULATORI PPAR-GAMMA2019
WO2019 / 126730DERIVATI DELLA CROMENOPIRIDINA COME INIBITORI DI FOSFATIDILINOSITOLO FOSFATO KINASE2019
US2018 / 230157PYRROLO [1,2-b] DERIVATI DELLA PIRIDAZINA2018
WO2018 / 169373DERIVATI DELLA PIRROLOTRIAZINA COME INIBITORE DI KINASE2018
WO2018 / 203194DERIVATI DIAZABICICLOOCTANICI CHE COMPRENDONO UN GRUPPO AMMONIO QUATERNERY DA UTILIZZARE COME AGENTI ANTIBATTERICI2018

Dati fisici

FormaPolvere di colore da bianco a biancastro
solubilitàDati non disponibili
Punto d'infiammabilitàDati non disponibili
Indice di rifrazioneDati non disponibili
SensibilitàDati non disponibili
Punto di fusione, °C Solvente (punto di fusione)
64esano
55 - 57etanolo
62 - 63aq. etanolo
63 - 64benzene, etere di petrolio
Punto di ebollizione, ° C
251
250 - 252
Densità, g · cm-3Temperatura di riferimento, ° CTemperatura di misurazione, ° C
1.14425
1.24 all'190 ottobre
1.24
Descrizione (Associazione (MCS))Solvente (Association (MCS))Temperatura (Associazione (MCS)), ° CPartner (associazione (MCS))
Costante di stabilità del complesso con ...CCl424.94-fluorofenolo
Costante di stabilità del complesso con ... acq. HNO325AgNO3
Entalpia di associazioneacetonitrile25iodio
Spettro NMR del complessoCDCl3Cu (2,4-dicloro-benzoato) 2

Spectra

Descrizione (spettroscopia NMR)Nucleo (spettroscopia NMR)Solventi (spettroscopia NMR)Temperatura (spettroscopia NMR), ° C Frequenza (spettroscopia NMR), MHz
Spostamenti chimici, spettro1Hcloroformio-d125300
Spostamenti chimici, spettro13Ccloroformio-d12575
3-Aminopyridine # CAS: 462-08-8 NMR3-Aminopiridina CAS 462-08-8 NMR
Descrizione (spettroscopia IR)Solvente (spettroscopia IR)Temperatura (spettroscopia IR), ° C
Bandsbromuro di potassio 27
SpettroCCl414.85 - 54.85
3-Aminopyridine # CAS: 462-08-8 IR3-Aminopyridine # CAS: 462-08-8 IR
Descrizione (Spettroscopia UV / VIS)Solvente (spettroscopia UV / VIS)Commento (spettroscopia UV / VIS)Assorbimento massimo (UV / VIS), nmExt./Abs. Coefficiente, l · mol-1cm-1
Assorbimento massimoH2O, H2SO4Rapporto di solventi: 66percent2585740
Assorbimento massimoH2O, NaOHRapporto di solventi: 0.1N232, 2908600, 3120

Route of Synthesis (ROS)

Route of Synthesis (ROS) di 3-Aminopyridine CAS 462-08-8
Condizionidare la precedenza
Con idrogeno In acetato di etile a 20 ℃; sotto 7600.51 Torr; per 6h; Autoclave;99%
Con 0.2C27H36N2 * Pt; idrogeno In tetraidrofurano a 60 ℃; sotto 3000.3 Torr; per 5h; reazione chemoselettiva;99%
Con idrogeno In acetato di etile sotto 760.051 Torr; per 2h; Riscaldamento; Reattore di flusso; Chimica verde;99%
Con idrogeno; trietilammina in etanolo; acqua a 110 ℃; sotto 30003 Torr; per 24h; Autoclave;98%
Con idrogeno In 2-metiltetraidrofurano; acqua a 40 ℃; sotto 15001.5 Torr; per 24h; reazione chemoselettiva;98%
Con sodio tetraidroborato In acqua a 20 ℃; per 1.5h; reazione chemoselettiva;

Procedura sperimentale
Procedura generale: in un esperimento tipico, 0.5mmol di nitroarene e 0.002g (2mol%) NiNPs / DNA sono stati aggiunti all'acqua 2mL e quindi agitati per 2-3min per la miscelazione completa. Successivamente, 1mmol di NaBH4 è stato aggiunto alla miscela di reazione sotto agitazione magnetica a temperatura ambiente. L'entità della reazione è stata monitorata mediante cromatografia su strato sottile. La riproducibilità dei risultati è stata verificata ripetendo i test almeno tre volte ed è stata trovata entro limiti accettabili (± 3%). Quando la reazione è stata completata, la miscela di reazione è stata diluita con etil acetato e il catalizzatore è stato recuperato mediante centrifugazione. Le frazioni organiche combinate sono state essiccate su Na2SO4 ed evaporate sotto pressione ridotta. Il prodotto grezzo è stato purificato mediante cromatografia su colonna su gel di silice con una miscela di etil acetato e n-esano come eluente e il rapporto tra etil acetato e n-esano era dipendente dalla struttura dei prodotti. La struttura dei prodotti isolati è stata verificata da 1H NMR.
97%

Sicurezza e rischi

Dichiarazioni sui pericoli GHSNon classificato

altri dati

TrasportiNONH per tutti i modi di trasporto
Sotto la temperatura della stanza e al riparo dalla luce
Codice SA
ArchiviazioneSotto la temperatura della stanza e al riparo dalla luce
Data di scadenza2 anni
Prezzo di mercatoUSD
Somiglianza alla droga
Componente delle regole di Lipinski
Peso molecolare94.116
log P all'0.047 ottobre
HBA2
HBD1
Regole di Lipinski corrispondenti4
Componente delle regole Veber
Area della superficie polare (PSA)38.91
Giunzione ruotabile (RotB)0
Regole Veber corrispondenti2
Usa Pattern
Utilizzato come generatore di fotoacidi (PAG) nei sistemi di fotoresist a amplificazione chimica per la litografia avanzata dei semiconduttori.
Se esposto alla luce UV o ultravioletta profonda (DUV), genera acidi forti che innescano reazioni di deprotezione catalitica nei materiali fotoresistenti, consentendo la formazione di motivi ad alta risoluzione.

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